Pas Normal Studios - Mechanism Stow Away Jacke für Damen - Kamel
Pas Normal Studios - Mechanism Stow Away Jacke für Damen - Kamel
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Die Stow Away Jacke wurde mit einem PFC-freien C0-Material aktualisiert. Diese leichte Jacke eignet sich perfekt für Fahrten am frühen Morgen und kalte Abfahrten. Sie lässt sich einfach in der Rückentasche verstauen, sodass Sie immer gut gerüstet und auf einen plötzlichen Regenschauer vorbereitet sind. Die Jacke aus DWR-behandelter japanischer Gewebetechnologie bietet optimalen Windschutz und hält auch gelegentlichen Schauern stand. Die verlängerte Rückenpartie ist mit einem Silikon-Gripper ausgestattet, um Sie vor Spritzwasser zu schützen. Dieses Kleidungsstück trotzt den Elementen und sorgt dafür, dass Sie mit der neuen attraktiven Auswahl an saisonalen Farbvarianten auf der Straße auffallen.
- Neu: PFC-freies C0-Material
- Race-Passform
- Zwei-Wege-Reißverschluss für einfachen Zugriff
- Reißverschlussschieber mit Road to Nowhere-Logo
- Elastische Bündchen
- Nicht fluorierte DWR-Behandlung
- Verlängertes Rückenteil mit Silikon-Gripper
- Lässt sich leicht in der Gesäßtasche verstauen
- Schnelltrocknend
- Material: 100 % japanisches Nylon
- Hergestellt in Vietnam
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