Pas Normal Studios - Mechanism Stow Away-Jacke für Damen - Dusty Mint
Pas Normal Studios - Mechanism Stow Away-Jacke für Damen - Dusty Mint
Die Stow Away Jacket ist für Ihre tägliche Fahrt konzipiert und bietet außergewöhnliche Zuverlässigkeit bei unvorhersehbarem Wetter. Diese leichte Jacke eignet sich für Fahrten am frühen Morgen und kalte Abfahrten und lässt sich leicht in einer Gesäßtasche verstauen, sodass Sie immer gut ausgerüstet und auf einen plötzlichen Regenschauer vorbereitet sind. Die Jacke wurde aus einer DWR-behandelten japanischen Stofftechnologie hergestellt, bietet optimalen Windschutz und hält gelegentlichen Regenschauern stand. Das verlängerte Rückenteil ist mit einem Silikongreifer ausgestattet, um Sie vor unerwünschtem Spritzwasser zu schützen. Dieses Kleidungsstück trotzt den Elementen und hilft Ihnen gleichzeitig, mit der neuen attraktiven Auswahl an saisonalen Farbkombinationen auf der Straße aufzufallen.